X 射线源］关于反射和透射目标的应用场景

1.背景

关于X射线产生的原理详见博客：
【X线源】微焦点X射线源的基本原理

https://blog.****.net/jn10010537/article/details/142717473

博客中提到了反射靶和透射靶。
本博客简单介绍反射靶和透射靶应用场景。

注意：
X线源其实是产生X线的设备，好比可见光的光源；
例如微焦点 X 线源 L9421-02 是最大管电压 90kV、最大管电流 200μA 的小型 X 线发生装置。
它将产生 X 线的微焦点 X 线管、高电压发生电路、控制电路合三为一，通过外部控制设备(计算机等)进行操作和控制。

关于X射线的产生，可以总结如下：
2.1、电子束产生：
反射靶系统内的电子枪，通常通过加热阴极灯丝，产生高速运动的电子，不过这些电子运动没有方向性。

2.2、电场加速：
通过在灯丝和阳极靶之间增加电压场，给电子加速到所需的速度，以便高速撞击阳极靶，注：实际的电子枪加速电场的结构比较复杂，且皆有区别。

2.3、电子束撞击靶材：
加速后的电子束被聚焦并撞击靶材的表面。靶材通常是高原子序数的金属（如钨），以提高X射线的产生效率。
对于反射靶而言：
当电子接近靶材原子核时，由于库仑力的作用，电子会减速并释放出其动能，形成X射线。这是X射